濺射靶材是決定半導(dǎo)體良品率的重要因素.所以半導(dǎo)體上的運用所需要的精密程度、純度是高的，濺射靶材的純度和精密程度都會直接影響半導(dǎo)體性能，采用差的濺射靶材直接的后果就是導(dǎo)致半導(dǎo)體短路，因此我們在談半導(dǎo)體濺射靶材的時候，往往談得是高純?yōu)R射靶材。這些靶材就元素可以分為鋁靶、鈦靶、銅靶、鉭靶、鎢鈦靶材等.

高純?yōu)R射靶材

高純度金屬濺射靶材的濺射靶尺寸和形狀可滿足大多數(shù)流行沉積工具的要求
圓盤靶，柱靶，階梯式晶片靶，板靶（Dia <650mm，厚度> 1mm）
矩形靶，切片靶，階梯矩形靶（長度<1500mm，寬度<300mm，厚度> 1mm）
管狀靶/旋轉(zhuǎn)濺射靶（外徑<300mm，厚度> 2mm）

高純?yōu)R射靶材

高純度金屬濺射靶材的純度
99.9％（3N），99.95％（3N5），99.99％（4N），99.999％（5N），99.9995％（5N5），99.9999％（6N）

高純?yōu)R射靶材作用原理

濺射靶材是硅晶圓片材料處理的關(guān)鍵工序，其主要是做了一件事，就是給半導(dǎo)體穿一層“衣服”，鍍上一層薄膜。但是這層薄膜不是起保護作用，而是導(dǎo)電。因為硅晶圓片本身不導(dǎo)電，而芯片是需要通過導(dǎo)電，從而處理信息的，所以需要金屬介質(zhì)，這個金屬介質(zhì)的來源就是濺射靶材。用離子的發(fā)射器，通過很高的速度發(fā)射離子，然后濺射靶材作為這些離子的接收者，在遭到這些離子的撞擊后自身的能量也很高，把表面的金屬等離子體發(fā)射到硅晶圓片上，形成一層鍍層。

半導(dǎo)體高純?yōu)R射靶材供應(yīng)商

濺射靶材本身的制造附加值并不高，其技術(shù)難點主要體現(xiàn)在靶材的純度上。謙工擁有專業(yè)化的大型生產(chǎn)基地，同時通過“科技創(chuàng)新、資源集成”的產(chǎn)學(xué)研模式，與中南大學(xué)材料科學(xué)工程學(xué)院進行深度合作，依托中南大學(xué)材料科學(xué)工程學(xué)院和粉末冶金所雄厚的技術(shù)開發(fā)實力以及完善的設(shè)備配套，擁有了極強的材料研發(fā)生產(chǎn)加工能力，可生產(chǎn)各種材質(zhì)及式樣的高純金屬靶材，純度高達6N，可提供常規(guī)尺寸產(chǎn)品也可按照客戶圖紙生產(chǎn)。只要您提供詳細的靶材信息，如純度，尺寸，公差要求，及其他技術(shù)要求，我們將盡快為您提供報價，并提供快的交期。